Event Information
- 会期
- 2025.01.29（水） — 31（金）
- 会場
- グランキューブ大阪（大阪府立国際会議場）
- ブース
- G-07
会期：2025年1月29日（水）～31日（金）
会場：グランキューブ大阪（大阪府立国際会議場）
主催者WEBサイト：https://www.kansai-jasis.jp/
ご来場前に来場者事前入場登録を！
＊『入場証』は、ご自身で A4サイズ・100％・カラー印刷し、ご持参ください。
展示ブース
G-07
展示ブースでは、非破壊で深さ方向分析が可能なHAXPES、イオン化ポテンシャルや電子親和力の情報が得られるUPS/LEIPS、有機材料の深さ方向分析には欠かせないガスクラスターイオンビーム(Ar-GCIB）、TOF-SIMSにおける分子構造解析に不可欠なMS/MS、他、AESやダイナミックSIMSなど、最新の表面分析技術についてご紹介いたします。
スペシャルコラボレーションとして、アルバック・ファイの最先端の表面分析装置と、株式会社堀場製作所のAFM-Raman分光装置を用いた同一箇所での詳細な分析を目指した取り組みと、その分析事例をご紹介いたします。
新技術説明会
| 日時 | テーマ（内容） | 会場 |
| 1月29日（水） 15:30～16:00 | フルオート多機能走査型XPS装置 PHI GENESISを用いた半導体材料の分析事例 | 会議室 1004 |
| 1月30日（木） 13:00～13:30 | アルバック・ファイのTOF-SIMS分析装置を用いた最新応用事例 | 会議室 1007 |