イベントレポート：JASIS関西 2019
2019.03.31 Update
イベントレポート：JASIS関西 2019
2019年 2月 5日（火）からの３日間、グランキューブ大阪にてJASIS関西 2019が開催されました。関西では初めての開催となったJASISでしたが大変盛況で、当社ブースおよび新技術説明会にも多くのお客様にご来場いただきました。
展示ブース
展示ブースでは、硬X線を搭載した走査型デュアルX線光電子分光分析装置（HAXPES） PHI Quantes、多機能走査型X線光電子分光分析装置（XPS）PHI 5000 VersaProbeIII、MS/MSパラレルイメージングオプション搭載の飛行時間型二次イオン質量分析装置（TOF-SIMS）PHI nanoTOFIIを中心に、当社の表面分析装置ラインアップをご紹介しました。
新技術説明会
ラボ型 硬X線光電子分光分析装置 PHI Quantes を用いた最新分析事例
デュアルモノクロX線のメリットの紹介に続き、実際にPHI Quantesを用いた絶縁物の帯電中和測定、化学状態分析について発表しました。
多機能型X線光電子分光分析装置 PHI 5000 VersaProbe III の最新分析事例
PHI 5000 VersaProbeIIIの最新のオプション LEIPS（低エネルギー逆光電子分光法）とREELS（反射電子エネルギー損失分光法）について、原理と特長を中心にご紹介しました。
新技術説明会で配布した資料は、クラブ・ファイの装置ユーザー会員様用コンテンツ「過去の発表資料」内でダウンロードいただけます。ぜひご活用ください。
（注：「過去の発表資料」は、装置ユーザー会員様限定で公開しています。クラブ・ファイ（一般）会員様はご覧いただくことが出来ませんが、何卒ご了承ください。）