概要/沿革

概要/沿革

会社概要

名 称 アルバック・ファイ株式会社 (ULVAC-PHI, Inc.)
創 立 1982年 11月 1日
資 本 金 1億円(2018年 9月現在)
株 主 株式会社アルバック
役 員 代表取締役社長 木村 市朗
常務取締役 原 泰博
取締役 岩﨑 浩一
取締役 渡邉 勝己
取締役 鈴木 智靖
取締役 齋藤 一也 (株式会社アルバック 上席執行役員)
取締役 萩之内 剛 (アルバック・クライオ株式会社 代表取締役社長)
監査役 髙橋 信次 (株式会社アルバック 経営企画室長)

沿革

1969年5月 米国ミネソタ大学のDr. R. E. Weberが中心となり、世界に先駆け表面分析装置の専門会社として Physical Electronics, Inc. ( PHI ) が設立される。
1971年4月 日本真空技術株式会社( 現 株式会社アルバック )が、PHIとの総代理店契約を締結。
1982年11月 PHIと日本真空技術株式会社は、総代理店契約を発展的に解消し、合弁会社アルバック・ファイ株式会社を設立。
1983年 大阪営業所を開設。
1997年9月 茅ヶ崎本社新社屋・工場を建設。
2003年2月 Physical Electronics, Inc. より、研究開発分野向け表面分析装置事業部門を買収し、表面分析装置製造およびグローバル販売を開始。
2003年2月 米国法人Physical Electronics USA(PHI-USA)を設立。
2003年12月 米国におけるサービス部門を買収し、グローバルな装置メンテナンス体制を確立。
2004年11月 C60イオン銃を搭載したX線光電子分光分析装置の販売を開始。
2008年12月 株式会社アルバックと共同でガスクラスターイオン銃を開発し、販売を開始。
2010年9月 走査型X線光電子分光分析装置「PHI Quantera II」を発表。
2011年9月 走査型X線光電子分光分析装置「PHI X-tool」を発表。
2012年11月 走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 710」を発表。
2015年2月 飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF II」を発表。
2016年5月 走査型X線光電子分光分析装置「PHI 5000 VersaProbe III」を発表。
走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 4800」を発表。
2016年10月 PHI nanoTOF II 用 「パラレルイメージング質量分析(MS/MS)オプション」を発表。
2017年2月 走査型デュアルX線(Al Kα, Cr Kα)光電子分光分析装置「PHI Quantes」を発表。
2017年3月 高速分光エリプソメーター「PHI QuickSE」シリーズを販売開始。
2017年8月 株式会社アルバック(茅ヶ崎本社・工場)敷地内に、本社・工場を移転。