概要/沿革

概要/沿革

会社概要

名 称	アルバック・ファイ株式会社 （ULVAC-PHI, Inc.）
創 立	1982年 11月 1日
資 本 金	1億円（2017年9月現在）
株 主	株式会社アルバック
役 員	代表取締役社長	山本　公
	常務取締役	木村　市朗
	常務取締役	原　泰博
	取締役	本多　和男
	取締役	岩﨑　浩一
	取締役	渡邉　勝己
	取締役	齋藤　一也　（株式会社アルバック 執行役員）
	取締役	石黒　雅彦　（アルバック・クライオ株式会社 代表取締役社長）
	監査役	髙橋　信次　（株式会社アルバック 経営企画室長）

沿革

1969年5月	米国ミネソタ大学のDr. R. E. Weberが中心となり、世界に先駆け表面分析装置の専門会社として Physical Electronics, Inc. ( PHI ) が設立される。
1971年4月	日本真空技術株式会社（ 現 株式会社アルバック ）が、PHIとの総代理店契約を締結。
1982年11月	PHIと日本真空技術株式会社は、総代理店契約を発展的に解消し、合弁会社アルバック・ファイ株式会社を設立。
1983年	大阪営業所を開設。
1997年9月	茅ヶ崎本社新社屋・工場を建設。
2003年2月	Physical Electronics, Inc. より、研究開発分野向け表面分析装置事業部門を買収し、表面分析装置製造およびグローバル販売を開始。
2003年2月	米国法人Physical Electronics USA（PHI-USA）を設立。
2003年12月	米国におけるサービス部門を買収し、グローバルな装置メンテナンス体制を確立。
2004年11月	C60イオン銃を搭載したX線光電子分光分析装置の販売を開始。
2008年12月	株式会社アルバックと共同でガスクラスターイオン銃を開発し、販売を開始。
2010年9月	走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI Quantera II」を発表。
2011年9月	走査型X線光電子分光分析装置「PHI X-tool」を発表。
2012年11月	走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 710」を発表。
2015年2月	飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF II」を発表。
2016年5月	走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI 5000 VersaProbe III」を発表。 走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 4800」を発表。
2016年10月	PHI nanoTOF II 用 「パラレルイメージング質量分析（MS/MS）オプション」を発表。
2017年2月	走査型デュアルX線（Al Kα, Cr Kα）光電子分光分析装置「PHI Quantes」を発表。
2017年3月	高速分光エリプソメーター「PHI QuickSE」シリーズを販売開始。
2017年8月	株式会社アルバック（茅ヶ崎本社・工場）敷地内に、本社・工場を移転。