概要/沿革

2015.09.11 Update

概要/沿革

会社概要

名 称 アルバック・ファイ株式会社 (ULVAC-PHI, Inc)
創 立 1982年 11月 1日
資 本 金 1億円 (2015年6月現在)
株 主 株式会社アルバック
役 員 代表取締役社長 山本 公
常務取締役 木村 市朗
常務取締役 原 泰博
取締役 本多 和男
取締役 岩﨑 浩一
取締役 齋藤 一也 (株式会社アルバック 執行役員)
取締役 松本 亮 (株式会社アルバック 執行役員)
監査役 髙橋 誠一 (株式会社アルバック 監査役)

沿革

1969年5月 米国ミネソタ大学のDr. R. E. Weberが中心となり世界に先駆け表面分析装置の専門会社としてPhysical Electronics, Inc. ( PHI ) が設立される。
1971年4月 日本真空技術株式会社 ( 現 株式会社アルバック ) がPHIとの総代理店契約を締結。
1982年11月 PHIと日本真空技術株式会社は総代理店契約を発展的に解消し、合弁会社アルバック・ファイ株式会社を設立。
1983年 大阪営業所開設。
1997年9月 茅ヶ崎本社新社屋・工場を建設。
2003年2月 Physical Electronics, Inc. より、研究開発分野向け表面分析装置事業部門を買収し、表面分析装置製造・販売にて業界トップメーカーとなる。
2003年2月 米国法人Physical Electronics USA (PHI-USA)を設立。
2003年11月 走査型オージェ電子分光分析装置(PHI 700)を発表。
2004年11月 C60イオン銃を搭載したX線光電子分光分析装置の販売を開始。
2006年8月 飛行時間型二次イオン質量分析装置(PHI TRIFT V nanoTOF™)を発表。
走査型X線光電子分光分析装置(PHI 5000 VersaProbe)を発表。
2008年12月 ガスクラスターイオン銃を開発し、販売を開始。
2009年9月 走査型オージェ電子分光分析装置(PHI 700 Xi)を発表。
2010年6月 走査型オージェ電子分光分析装置(PHI 4700 Thin Film Analyzer™)を発表。
2010年9月 走査型X線光電子分光分析装置(PHI Quantera II™)を発表。
2011年7月 走査型X線光電子分光分析装置(PHI 5000 VersaProbe II)を発表。
2011年9月 自動XPS分析装置(PHI X-tool)を発表。
2012年11月 走査型オージェ電子分光分析装置(PHI 710)を発表。
2015年2月 飛行時間型二次イオン質量分析装置(PHI nanoTOF II™)を発表。
2016年5月 走査型X線光電子分光分析装置(PHI 5000 VersaProbe III)を発表。
走査型オージェ電子分光分析装置(PHI 4800)を発表。