概要/沿革

会社概要

名称	アルバック・ファイ株式会社（ULVAC-PHI, Inc.）
設立	1982年 11月 1日
資本金	1億円
株主	株式会社アルバック
役員	代表取締役社長	髙橋　明久
	取締役	尾形　篤
	取締役	小野　治彦
	取締役	坂井　大輔
	取締役	内田　孝司
	取締役	江積　学　　（株式会社アルバック　管理本部財務・経理部部署長）
	取締役	半那　拓　（株式会社アルバック　開発本部先進技術研究所半導体応用技術研究部部長）
	監査役	齋藤　一也　（株式会社アルバック　監査役）

沿革

1969年5月	米国ミネソタ大学のDr. R. E. Weberが中心となり、世界に先駆け表面分析装置の専門会社として Physical Electronics, Inc. ( PHI ) が設立される。
1971年4月	日本真空技術株式会社（現株式会社アルバック）が、PHIとの総代理店契約を締結。
1982年11月	PHIと日本真空技術株式会社は、総代理店契約を発展的に解消し、合弁会社アルバック・ファイ株式会社を設立。
1983年	大阪営業所を開設。
1997年9月	茅ヶ崎本社新社屋・工場を建設。
2003年2月	Physical Electronics, Inc. より、研究開発分野向け表面分析装置事業部門を買収し、表面分析装置製造およびグローバル販売を開始。
2003年2月	米国法人Physical Electronics USA（PHI-USA）を設立。
2003年12月	米国におけるサービス部門を買収し、グローバルな装置メンテナンス体制を確立。
2004年11月	C₆₀イオン銃を搭載したX線光電子分光分析装置の販売を開始。
2008年12月	株式会社アルバックと共同でガスクラスターイオン銃を開発し、販売を開始。
2010年9月	走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI Quantera II」を発表。
2011年9月	走査型X線光電子分光分析装置「PHI X-tool」を発表。
2012年11月	走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 710」を発表。
2015年2月	飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF II」を発表。
2016年5月	走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI 5000 VersaProbe III」を発表。走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 4800」を発表。
2016年10月	PHI nanoTOF II 用「パラレルイメージング質量分析（MS/MS）オプション」を発表。
2017年2月	走査型デュアルX線（Al Kα, Cr Kα）光電子分光分析装置「PHI Quantes」を発表。
2017年3月	高速分光エリプソメーター「PHI QuickSE」シリーズを販売開始。
2017年8月	株式会社アルバック（茅ヶ崎本社・工場）敷地内に、本社・工場を移転。
2021年10月	走査型Ｘ線光電子分光分析装置「PHI VersaProbe 4」を発表。飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF 3」を発表。
2022年7月	フルオート多機能走査型X線光電子分光分析装置「PHI GENESIS」を発表。
2023年8月	大阪営業所を閉鎖。
2023年10月	飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF 3⁺」を発表。
2023年11月	中国現地法人爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司を設立。
2025年1月	四重極型二次イオン質量分析装置「PHI ADEPT-1010s」を発表。