イベントレポート:JASIS 2016

2016.11.18 Update

イベントレポート:JASIS 2016

2016年9月7日(水)から3日間、幕張メッセ国際会議場にて JASIS 2016 が開催されました。
当社の出展ブースの様子や新技術説明会での発表内容について紹介いたします。

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本年も当社ブースにたくさんのお客様がお立ち寄りくださいました。

本年度の柱となる最新情報は、この度リリースした "新製品" と、当社が独自に開発した "新技術" で、それぞれの実測データや応用例を用いて特長や機能をまとめたパネルを配置しました。

ブース内では、パネルや動画などを使い、お客様に興味を持っていただいた内容に対して説明を行いました。

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新製品

  • PHI 5000 VersaProbe III(X線光電子分光分析装置・XPS)
    「販売実績No,1 VersaProbeシリーズの最新モデル」
  • PHI 4800(オージェ電子分光分析装置・AES)
    「最高感度の次世代オージェ」

新技術

  • 走査型デュアルモノクロX線源 搭載 硬X線光電子分光分析装置(PHI Quantes)
    「AlKαとCrKαの2線源を有し、同一点で異なる深さ情報の分析を可能にしたラボ型HAXPES」
  • PHI nanoTOF II 用 MS/MSオプション(パラレルイメージングMS/MS)
    「同一分析領域のMS1とMS2(スペクトルとイメージ)の同時取得を実現。これまで難解とされてきたTOF-SIMSにおける化合物の同定の実現が期待される革新的なオプション」

多くのご質問をいただいた新製品や新技術など当社の最新情報は、今後も引き続き、各種イベントやホームページにて情報配信いたします。


新技術説明会では、下記3件の発表を行いました。

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最新のXPS分析装置の分析事例の紹介

新製品「PHI 5000 VersaProbe III」と、現在開発中の硬X線光電子分光分析装置「PHI Quantes」について、それぞれの装置の特長と分析事例を紹介しました。
(発表者:分析室 井上 りさよ)

最新のオージェ分析装置を用いた微小領域の化学状態分析事例

高感度・高エネルギー分解能を誇るオージェ電子分光分析装置の新製品「PHI 4800」について、分析事例を用いて紹介しました。
(発表者:分析室 間宮 一敏)

パラレルイメージングMS/MSを搭載したTOF-SIMSによる最新の応用事例

PHI nanoTOF II の新オプション パラレルイメージングMS/MS が導き出す、TOF-SIMS分析の応用事例を紹介しました。
(発表者:分析室 飯田 真一)

興味のある発表内容がございましたら、お気軽に営業部までお問合せください。
それでは、来年もJASIS会場にて皆様のご来場をお待ちしております!

レポート作成:アルバック・ファイ株式会社


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2016年 JASIS 新技術説明会