アルバック・ファイ 技術講演会

アルバック・ファイ 技術講演会

毎年ご好評をいただいております 「アルバック・ファイ 技術講演会」 を開催致します。
各分野でご活躍されている先生方をお招きし、幅広い視野でのご講演を企画しております。
ご繁忙の折とは存じますが、皆様のご来場を心よりお待ちしております。

開催日時

2016年6月1日(水)10:30~17:00(受付開始 10:00~)

プログラム

午前 [10:30~12:00]

アルバック・ファイより

アルバック・ファイ株式会社 技術開発部 渡邉 勝巳
「新製品・新技術の紹介」

アルバック・ファイ株式会社 分析室 飯田 真一
「パラレルイメージングMS/MSを用いた最新の応用事例」
 


昼休憩


午後 [13:00~17:00]

ご講演

株式会社 三井化学分析センター 塩沢 一成 様
「実用材料の表面分析との関わりの中で感じた想いと今後への期待」

株式会社 コベルコ科研 稲葉 雅之 様
「コベルコ科研における光電子分光法の活用と展望」

国立研究開発法人 理化学研究所 但馬 敬介 様
「有機半導体薄膜の表面・界面構造制御と有機電子デバイスへの応用」

国立研究開発法人 物質・材料研究機構 藤田 大介 様
「オペランド表面ナノキャラクタリゼーションの系譜と展望
 ~グラフェンから次世代電池まで~」

(以上、ご講演順)

~途中、休憩あり~


技術講演会終了後に懇親会をご用意しておりますので、ぜひご参加ください。

  • 技術講演会へのご参加は無料です。
  • 定員になり次第、受付を締め切らせていただきます。
  • スケジュールは予告なしに変更する場合があります。

開催場所

建築会館ホール

https://www.aij.or.jp/jpn/guide/map.htm

東京都港区芝5丁目26番20号
JR 「田町駅」三田口(西口)より徒歩5分
地下鉄 都営浅草線・三田線「三田駅」A3出口 より 徒歩3分