COMPANY
About
会社概要・沿革
会社概要
| 名 称 | アルバック・ファイ株式会社（ULVAC-PHI, Inc.） | ||||||||||||||||
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| 設 立 | 1982年 11月 1日 | ||||||||||||||||
| 資 本 金 | 1億円 | ||||||||||||||||
| 株 主 | 株式会社アルバック | ||||||||||||||||
| 役 員 |
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沿革
1969年 5月
米国ミネソタ大学の Dr. R. E. Weber が中心となり、世界に先駆け表面分析装置の専門会社として Physical Electronics, Inc. (PHI) が設立される。
1971年 4月
日本真空技術株式会社（現 株式会社アルバック）が、PHIとの総代理店契約を締結。
1982年 11月
PHIと日本真空技術株式会社は、総代理店契約を発展的に解消し、合弁会社 アルバック・ファイ株式会社 を設立。
1983年
大阪営業所を開設。
1997年 9月
茅ヶ崎本社新社屋・工場を建設。
2003年 2月
Physical Electronics, Inc. より研究開発分野向け表面分析装置事業部門を買収し、表面分析装置製造およびグローバル販売を開始。米国法人 Physical Electronics USA（PHI-USA） を設立。
2003年 12月
米国におけるサービス部門を買収し、グローバルな装置メンテナンス体制を確立。
2004年 11月
C60イオン銃を搭載したX線光電子分光分析装置の販売を開始。
2008年 12月
株式会社アルバックと共同でガスクラスターイオン銃を開発し、販売を開始。
2010年 9月
走査型X線光電子分光分析装置「PHI Quantera II」を発表。
2011年 9月
走査型X線光電子分光分析装置「PHI X-tool」を発表。
2012年 11月
走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 710」を発表。
2015年 2月
飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF II」を発表。
2016年 5月
走査型X線光電子分光分析装置「PHI 5000 VersaProbe III」、走査型オージェ電子分光分析装置「PHI 4800」を発表。
2016年 10月
PHI nanoTOF II 用「パラレルイメージング質量分析（MS/MS）オプション」を発表。
2017年 2月
走査型デュアルX線（Al Kα, Cr Kα）光電子分光分析装置「PHI Quantes」を発表。
2017年 3月
高速分光エリプソメーター「PHI QuickSE」シリーズを販売開始。
2017年 8月
株式会社アルバック（茅ヶ崎本社・工場）敷地内に本社・工場を移転。
2021年 10月
走査型X線光電子分光分析装置「PHI VersaProbe 4」、飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF 3」を発表。
2022年 7月
フルオート多機能走査型X線光電子分光分析装置「PHI GENESIS」を発表。
2023年 8月
大阪営業所を閉鎖。
2023年 10月
飛行時間型二次イオン質量分析装置「PHI nanoTOF 3+」を発表。
2023年 11月
中国現地法人 爱发科费恩斯（南京）仪器有限公司 を設立。
2026年 7月
四重極型二次イオン質量分析装置「PHI ADEPT 2」リリース。
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