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GCIB オプション

有機物試料の低損傷スパッタリングを実現するガスクラスターイオン(GCIB)銃を、PHI 表面分析装置のオプション化しました。本オプションは、ICF114取付の小型ガスクラスターイオン銃であり、表面分析の常識を打ち破る画期的なスパッタイオン銃です。

特長

巨大ガスクラスターを効率よく生成し、電子衝撃によりイオン化して2.5kV～20kVの加速電圧で真空中の試料に照射できます。本装置は表面分析用に開発されたもので、小型化・超高真空対応し、排気ポンプ・エレクトロニクス・ソフトウェアを付属してコンポーネント化しました。標準でアルゴンガスに対応します。 3台のターボ分子ポンプにより、スパッタ中に7気圧から10^-7Torr（PHI 5000 VersaProbe™ 取付の場合）までの差動排気を実現し、超高真空装置での利用に対応します。
超低エネルギー(アルゴン1原子あたり平均1eVから20eVまで）のクラスターイオンビームの利用を、簡単なソフトウェア制御により実現します。

ガスクラスターイオン(GCIB)銃	06-2000 Gas Cluster Ion Gun
加速電圧　kV	2.5～20
最大ビーム電流　nA	20以上^※1
最小ビーム径　mm	2 以下^※1
導入ガス圧　kPa（絶対圧）	500～700
動作距離　mm	30～130（フランジ面－試料間）

イオン銃コントロール（高圧部、コイル･偏向部）	18-700 Gas Cluster Ion Source Control	11-701 Wien & Bend Control
寸法W×H×D^※2㎜	482×268×570	483×179×570
電力　VA　(AC100－240V)	270	650
重量　kg	45	19

付属品	ターボ分子ポンプ(3台) ロータリーポンプ(2台) 高圧ガス圧コントローラ Windows® XPパーソナルコンピュータ(ソフトウェア付属)

取付装置条件	主排気室はターボ分子ポンプを使用すること GCIBイオン銃の取り付けは、114mmφICFフランジとし、ユーザー側で銃のサポート設置をおこなうこと AC電源、冷却水、ガスボンベ（アルゴン）

※1：加速電圧を20kV、動作距離を70mm、ガス種Arとした場合
※2 W=Width, H=Height, D=Depth